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真空退火爐是一種十分常見的熱處理設(shè)備，其主要作用在于能將加熱到必定程序的資料，通過逐漸退火的方式來下降溫度，防止因溫度驟降導(dǎo)致資料內(nèi)部呈現(xiàn)損壞或是達不到預(yù)期的意圖

真空燒結(jié)爐需求燒結(jié)的內(nèi)膽選用濕法涂釉，一涂一燒工藝，燒結(jié)溫度為840～880℃，枯燥溫度100～150℃，燒結(jié)時刻約8～10min。

真空有利于掃除吸附氣體，對促進燒結(jié)后期的收縮效果明顯。

真空爐是在關(guān)閉的爐體內(nèi)部構(gòu)成一個負壓的真空環(huán)境，在機體內(nèi)填充熱媒水。通過焚燒或其它方法加熱熱媒水，再由熱媒水蒸騰―冷凝至換熱器上，再由換熱器來加熱需要加熱的水。

體系的先進性由規(guī)劃、元器件選型及質(zhì)量、加工制造質(zhì)量來確保的。機械體系運行平穩(wěn)、牢靠，設(shè)備處于低噪音、低振動作業(yè)狀態(tài)。

真空燒結(jié)爐是一種使陶瓷坯體的固體顆粒在高溫下互相粘結(jié)，晶粒長大，孔隙(氣孔)和晶界逐步削減，通過物質(zhì)的搬運，使總體積削減，密度添加，終成為具有必定顯微構(gòu)造的致密多晶燒結(jié)體的爐子。燒結(jié)爐主要用于陶瓷粉體、陶瓷鑲塊等氧化鋯陶瓷。

只有當(dāng)鼓風(fēng)機接通后加熱元件才干通電，這樣可確保加熱元件能在通風(fēng)循環(huán)的情況下工作。